光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。
净化工程
一、组合式空气处理机组 冷水机组 高效送风口
1、优点：
a、空气处理效果好。
b、比较适用于有集中冷源的或是较大的净化车间。
c、空调冷热源可与厂房普通空调系统合用或独立冷热源。
d、维修频率较低。
e、车间的噪音低。
2、缺点：
a、需要有配套的冷冻机房或有放置热泵机组的室外空间。
b、造价高。
净化工程
二、光学微电子行业净化工程设计方案分析之水冷柜机 增压风柜 高效送风口
1、优点：
a、空气处理效果较好的，处理过后的空气在送风过程中被污染程度低。
b、布置灵活。自带冷源。
c、大小厂房、新旧厂房都适用。
d、维修频率较低。
e、车间噪音低。
2、缺点：
a、需要小面积的机房。需要有冷却塔、冷却水泵的摆放位置。
b、空调机组与空调处理机组要集中布置。
c、造价较低。
净化工程
三、光学微电子行业净化工程设计方案分析之分体空调柜机 ffu送风口
1、优点：
a、不需要占用机房面积，布置灵活。
b、可以满足空气的洁净度。
c、造价最低。
d、送风均匀度好。
2、缺点：
a、温湿度控制较差。
b、可以满足空气的洁净度。
c、ffu的维修频率高。
净化工程
四、光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点
1、洁净度：
lcd制屏的简略流程为：清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→lc注入→贴偏振片→制屏终检
2、室内空气参数要求：
a、温湿度要求：温度一般为24 2℃，相对湿度为55 5%。
b、新风量大。
c、送风量大。
净化工程的设计过程中，应加强对光学微电子行业净化工程设计方案分析了解,根据光学微电子净化工程是新建工程或者是旧厂房改造工程，并结合其具体的生产工艺、生产流程等要求确定其需要的洁净度、温湿度。再根据该工程的具体情况，同时还要考虑到生产厂家的经济承受能力，综合各种因素来确定采用何种净化方案，这样才可设计出一个能满足甲方生产使用要求、工程造价合理、经济节能实用的方案。